无锡美新半导体总部办公楼 UDG联创国际
2014-03-19 16:38
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这是一栋集办公、研发和生产的复合型办公楼。设计采用“方”与“圆”的形体与景观构图，影射古代阴阳学说对于空间的哲学理解。
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立面强调水平线条，每层环绕建筑的清水混凝土水平出檐宽2.5m，表达传统建筑宁静深远的意境，同时避免阳光直射室内，使办公研发空间有柔和的间接采光。
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高透玻璃幕墙尽可能模糊建筑的垂直边界，从室内感受出檐的水平延展。建筑立面为铝板幕墙，采用热转印技术，使深灰色铝板具有肌理和质感，回归建筑的质朴本质。北立面与西立面外挂穿孔铝板，孔洞大小与疏密，对入射的太阳光进行微妙的调节。
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空间的设计中，连通北侧入口门厅与南侧展厅之间的缓楼梯，在玻璃幕墙与小青砖内墙之间缓慢抬升。
在室内人们在行走的过程中感受传统与现代的共存，以及流动空间带来的奇特体验。五层东南侧和六层东侧有室外平台，可以看到宛山荡开阔的景观。
建筑师 钱强 / 李小健 / 迟晓昱
地址 中国 江苏西山 无锡
建筑面积 14057.36 平方米
Category 公共机构建筑
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